苑博士講鉆石：CVD反應(yīng)爐的種類及分析

發(fā)布時間：

2022-01-12 00:00

1，熱絲 Hot Filament

2，直流電弧噴射 DC Arc Jet

3，微波等離子 Microwave Plasma

前二種適合生長多晶薄膜。微波分為2450MHz及915MHz兩種頻率，后者可以做到25到100KW的功率，其托盤直徑可達4-8英寸，較前者的生產(chǎn)效率（6KW，2英寸）高很多，大型設(shè)備是未來CVD爐的趨勢。

等離子CVD反應(yīng)爐廠牌及分析：

1、中國普萊斯曼直流電弧噴射式CVD爐，適合做多晶金剛石片，等離子體溫度極高，約為6000ºC。

2、日本 Cornes (SEKI) 直筒式，快長后HPHT改色會有灰黑色產(chǎn)生，慢長可直接長白；SDS6K掀蓋式，快長后HPHT改色可以產(chǎn)生正常白色。

3、德國 Iplas Cyrannus，適合生長大面積多晶片，長單晶會有灰黑色。

4、法國/瑞士 Plasmadiam SSDR150直筒式，快長后HPHT改色會有灰黑色產(chǎn)生，慢長可直接長白，四周多晶會外擴非常大。

5、德國 Aixtron 915MHz 60kW，全世界體積最大臺。諧振腔為大橢圓球形，生長腔體為玻璃鐘罩，快長后HPHT改色會有灰黑色產(chǎn)生，適合生長大面積（6英寸）多晶。

6、美國 Lightbox直筒式6英寸托盤，快長后HPHT改色可以產(chǎn)生正常白色，現(xiàn)為全世界最好的機型。

7、中國東莞優(yōu)普萊、成都沃特塞恩（紐曼和瑞）、成都華宇

、成都穩(wěn)正、上海鉑世光、無錫遠穩(wěn)，所有機型快長后，HPHT改色會有灰黑色產(chǎn)生，慢長部分可長稍白，部分淺灰。

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直流電弧噴射式CVD爐

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直流電弧噴射式CVD生長中之等離子體

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筆者2008年元月份利用直流電弧噴射式CVD爐生長出第一顆CVD單晶培育鉆石

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日本 Cornes (SEKI) SDS6K

日本Seki公司于1999年采用美國ASTeX公司的專利技術(shù)研發(fā)成功了微波等離子體化學氣相沉積金剛石系統(tǒng)，并向全世界銷售了500臺以上的設(shè)備用于實驗與商業(yè)生產(chǎn)。2014年被Cornes公司并購，生產(chǎn)的掀蓋式SDS6K型MPCVD設(shè)備沿用了Seki的技術(shù)。

Astex75kW